對納米粉體制造廠而言，當然希望以干法研磨方法來得到最終納米粉體。但若以機械研磨方式研磨粉體時，在研磨過程中，粉體溫度將因大量能量導入而急速上升，且當顆粒微細化后，如何避免防爆問題產生等均是研磨機難以掌控的。
所以一般而言，干法研磨的粒徑只能研磨到8μm。如果要得到8μm以下粒徑，就必須使用濕式研磨。
所謂濕法研磨即先將納米粉體與適當溶劑混和，調制成適當材料。為了避免于研磨過程中發(fā)生粉體凝聚現(xiàn)象，所以需加入適當分散劑或助劑當助磨劑。
若希望最后納米級成品為粉體而非漿料，則需考量到如何先將漿料中之大顆粒粒子過濾及如何將過濾后之漿料干燥以得到納米級之粉體。
所以，當以濕法研磨方式得到納米級粉體時，如何選擇適當?shù)娜軇┅p助劑﹑過濾方法及干燥方法將影響到是否能成功地得到納米級粉體關鍵技術。
干法研磨一般用球磨罐或球磨機，氧化鋯珠用偏大的球的，如5、6、8、10、15、20mm等鋯球。
濕法研磨用的珠磨機，是需要根據(jù)物料的初始粒徑和最終磨到的細度，來決定選用多大的氧化鋯珠。
